Семинар
Дата проведения: 26 февраля 2019 г.
Организатор: компания «Серния Инжиринг».
Место проведения: г. Москва, Физический факультет МГУ им. М. В. Ломоносова.
- Продолжительность — 2 часа
- Начало — в 11.00
- Кофе-брейк — с 12 до 12.30
- Язык презентации — английский. Презентация будет сопровождаться переводом на рус. язык.
На семинаре расскажут о современных методах осаждения и травления материалов на основе работы оборудования Plassys, Франция.
Установки Plassys применяются для термического, электронно-лучевого и магнетронного напыления, выращивание алмазов CVD методом, для ионного травления и осаждения.Данные технологии представляют особый интерес для специалистов, занятых в области производства полупроводников, сверхпроводников, сенсоров.
Программа семинара:
| Время | Программа |
| 10.45-11.00 | Регистрация, приветственный кофе |
| 11.00-12.00 | Приветственное слово презентации, часть 1 Вступительное слово представителя компании Plassys. Обзор основной продуктовой линейки оборудования Plassys. Установки Plassys для нанесения тонких пленок. Технологии и методы. |
| 12.00-12.30 | Кофе-брейк |
| 12.30-13.30 | Презентация, часть 2 Метод MPCVD для выращивания алмазов. Установки Plassys для травления материалов. Установки для кубитных технологий. Нанесение сверхпроводящих покрытий. Вопросы для обсуждения. |
Официальный сайт семинара sernia.ru
