10 марта состоялось заседание Научного совета ОНИТ РАН, посвященное фундаментальным проблемам элементной базы информационно-вычислительных и управляющих систем и материалов для ее создания. Участники мероприятия обсудили современное состояние литографии и перспективы создания отечественной технологической цепочки для производства чипов промышленного назначения.

Генеральный директор АО «Зеленоградский нанотехнологический центр» (ЗНТЦ) Анатолий Ковалев представил доклад о научно-технических решениях центра при локализации производства литографических степперов и поделился планами по разработке линии фотолитографического оборудования 350-90 нм.

Фото: ЗНТЦ
Фото: ЗНТЦ

В своем выступлении Ковалев обозначил основные задачи, стоящие перед ЗНТЦ:

  • Освоение полного цикла фотолитографии без импортного оборудования
  • Снижение себестоимости и технологических рисков при производстве микросхем в России
  • Создание платформы для последующего масштабирования до 130/90 нм

По словам генерального директора ЗНТЦ, на сегодняшний день уже заключено два контракта на поставку нового степпера. В настоящее время ведется отработка базовых технологических процессов с заказчиками.

Доклад завершился оживленной дискуссией, в ходе которой участники обменялись мнениями по поводу перспектив и вызовов, связанных с переходом к этапу углубленной локализации материалов и комплектующих, а также полной сборки оборудования.

Заседание Научного совета ОНИТ РАН стало важной площадкой для обсуждения стратегических вопросов развития отечественной микроэлектроники и определения приоритетных направлений в области литографических технологий.