Picosun Group (Финляндия) — ведущий разработчик в области нанесения тонкопленочных покрытий (ALD, атомно-слоевое осаждение, АСО). Новый подход плазменного атомно-слоевого осаждения PEALD имеет расширенный диапазон рабочих параметров и, соответственно, перечень доступных процессов АСО, что позволяет получить максимально однородную пленку с высоким качеством.
PEALD — новая технология плазменного АСО, позволяющая получать превосходное качество тонких пленок. Осаждение материалов в технологии PEALD происходит при относительно низких температурах, что значительно повышает разнообразие наносимых материалов, в том числе и недостаточно восприимчивых к термическому процессу. Низкая температура технологического процесса также позволяет наносить покрытие на чувствительные к нагреву материалы, такие как пластик и полимеры.
Разработчики Picosun полностью устранили основной минус технологии PEALD — повреждение поверхности образца, вызванное процессом ионной бомбардировки. Теперь при отведении (удаление) плазмы, когда источник плазмы находится достаточно высоко над образцом, а реактивные частицы, достигающие поверхности, представляют собой радикалы с низкой энергией, а не высокоэнергетические ионы — повреждения поверхности образца не происходит.
В результате проведенной модернизации оборудование серии Picoplasma™ с технологией PEALD перешло на совершенно новый уровень, обеспечивая при этом большую скорость обработки при высоком качестве и чистоте пленки.
Основные преимущества технологии
PEALD основана на дистанционном применении микроволновой плазмы (MWP) высокой мощности. Генератор плазмы, представляющий собой компактный и легкий прибор, может быть целиком интегрирован в существующие реакторы производства Picosun®.
В новом подходе реализуется практически бездефектное напыление однородной структуры, с высокой степенью конформности, чрезвычайно низким содержанием примесей металлов и с гораздо более коротким временем обработки по сравнению с ранее используемым методом.
Такой способ применения микроволновой плазмы обеспечивает более широкий диапазон рабочих параметров, тем самым расширяя перечень доступных процессов АСО, позволяя получить максимально однородную пленку с высоким качеством.
Таблица 1. Свойства пленки (на примере SiO2), полученные новым методом PEALD.
Размер пластины, рабочая температура, скорость осаждения | Неоднородность толщины пленки (1σ, подложка 5мм, 49 точек) | Ток утечки(@4МВ) | Частицы (@>0,25 мкм) | Примеси металлов (атомы Fe, Ti, Cr, Mn, Ni, Cu, Zn) |
200 мм, 400 ºC, 0.86 А/цикл | 1.7 % (пленка~10 нм) | 2.1×10-8A/см2 | <60 | <2×1010/см2 |
Где применяется
Обновленное оборудование серии Picoplasma™ от Picosun с новой, тщательно модернизированной технологией плазменного АСО (PEALD) станет незаменимым в сферах разработки и создания устройств для медицины и микроэлектромеханических систем (MEMS).
Основная причина в том, что данные устройства обычно изготавливаются на чрезвычайно чувствительных подложках, которые можно обрабатывать только при низких температурах. Именно по этой причине оборудование Picosun с технологией PEALD — идеальное решение, специально разработанное для этих задач.
О Picosun
Picosun предлагает самую совершенную технологию тонкоплёночного АСО покрытия, позволяющую осуществить промышленный скачок в будущее, с производственными решениями «под ключ» и непревзойдённым опытом в этой области. Сегодня оборудование АСО PICOSUN™ ежедневно используется во многих крупных отраслях промышленности по всему миру. Picosun базируется в Финляндии, с филиалами в Европе, Северной Америке, Сингапуре, Тайване, Китае, Японии и всемирной сетью продаж и поддержки.
