Киреев В.Ю. Столяров А.А. Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы
Предисловие
В настоящее время микроэлектроника является катализатором научно-технического прогресса для всех важнейших отраслей народного хозяйства, а уровень развития и объемы производства ее основных изделий – интегральных микросхем (ИМС) во многом определяет культурный, экономический и оборонный потенциалы страны. Недаром современная яркая и наглядная классификация научно и технически развитой страны определяет ее как страну, способную массово производить мощные персональные компьютеры и компьютерные системы (станции) на собственных (изготовленных в стране) ИМС.
Наиболее массовыми видами микросхем, производимых по кремниевой КМОП технологии, т.е. на основе полевых МОП (металл-окисел-полупроводник) или МДП (металл-диэлектрик-полупроводник) транзисторов, являются:
- запоминающие устройства (ЗУ) (memory integrated circuits (IC)) и особенно динамические оперативные запоминающие устройства (ДОЗУ) (DRAM - dynamic random access memory);
- логические микросхемы (logic IC) и особенно микропроцессоры (МП) ((MPU) (µ-Proc) microprocessor unit)
В настоящее время минимальные размеры элементов массово производимых ДОЗУ и МИ определяют уровень технологии (УТ) микроэлектроники, достигнутый страной (см. табл. А).
Однако, несмотря на это очевидное положение, Россия практически не выделяет государственных средств для развития собственной микроэлектроники, состояние которой остается на УТ, достигнутом СССР к 1990 г. и определяемом минимальным размером элементов массово производимых ИМС равным 800 нм.
👉 Подписывайтесь на Elec.ru. Мы есть в Телеграм, ВКонтакте и Одноклассниках